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氫氧化鉀濃度對(duì)洗脫時(shí)間的影響 (SI-36 4D)

更新時(shí)間:2025-02-17      點(diǎn)擊次數(shù):76
 此色譜柱請(qǐng)配合使用抑制器法離子色譜系統(tǒng)。


下圖是使用陰離子分析用色譜柱IC SI-36 4D分析各陰離子,流動(dòng)相氫氧化鉀濃度和洗脫時(shí)間的關(guān)系。基本上,氫氧化鉀濃度越高,陰離子的洗脫越快。洗脫程度根據(jù)陰離子而不同,特別是磷酸離子,硫酸根離子,亞硫酸根離子和碳酸根離子的保留時(shí)間變化顯著。


Sample : 25 μL
Inorganic anions  1 μg/mL each (in H2O)
Organic acids  10 μg/mL each (in H2O)
 
 

Column       : Shodex IC SI-36 4D (4.0 mm I.D. x 150 mm)

Eluent       : 20, 25, 30 mM KOH aq.

               (Eluent source : DionexTM EGC 500 KOH)           

Flow rate    : 0.7 mL/min

Detector     : Suppressed conductivity

Column temp. : 30 ℃

地址:上海市靜安區(qū)新閘路668號(hào)19樓

郵箱:Shodex_sales_cn@resonac.com

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